北方华创获半导体清理洗涤设施专利助力提升晶圆良率

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  近日，国家知识产权局公布了一项名为“半导体清理洗涤设施”的实用新型专利，授权公告号为CN222530377U，专利权人为北京北方华创微电子装备有限公司。该专利的取得标志着我国在半导体清理洗涤设施领域的技术实力逐步提升，为半导体制造业带来了新的突破。

  这项专利的核心在于其创新的支撑结构设计。专利摘要显示，该设备通过第二支撑结构的支撑组件，实现了晶圆在脱离液体界面过程中的固定，从而避免了传统清理洗涤设施中晶圆与支撑结构的接触问题。这种设计不仅提升了清洗效率，还有很大效果预防了晶圆在清洗过程中因接触而产生的损伤，进一步提升了晶圆的良率。

  北京北方华创微电子装备有限公司成立于2001年，注册资本达114153.708311万人民币，是一家专注于半导体设备研发与制造的企业。截至目前，该公司已拥有专利5000余项，商标38项，展现出强大的技术积累和创新能力。

  这一专利的取得，不仅体现了北方华创在半导体设备领域的技术实力，也为我国半导体制造业的技术升级提供了有力支撑。随着半导体产业的加快速度进行发展，清理洗涤设施作为半导体制作的完整过程中的关键环节，其技术革新对提升整体生产效率和产品质量具备极其重大意义。

  未来，随着AI技术的逐步发展，类似的技术创新将更加频繁地出现在半导体制造领域，为行业带来更高的效率和更低的成本。对于从业者而言，掌握这些新技术并将其应用于实际生产，将是提升竞争力的关键。同时，借助AI工具如搜狐简单AI，能更加进一步提高工作效率，实现副业收入的多元化发展。

  总之，北方华创此次取得的专利，不仅是企业技术创新的成果，也是我国半导体制造业迈向更高水平的重要标志。未来，随着更多创新技术的涌现，半导体产业将迎来更加繁荣的发展前景。

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